鲁汶仪器于2015年，由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省徐州市，在北京设有研发中心，在上海、成都、台湾新竹、新加坡、韩国光州等地设有市场和技术服务中心。
公司拥有国际化的专家团队和苏北地区首家“诺贝尔奖得主工作室”。技术团队由诺贝尔奖获得者、五名国家专家、多名国内外半导体领域知名教授、首席工程师、及高校科研院所的年轻技术骨干组成。
鲁汶仪器致力于为12英寸及8英寸集成电路制造线提供先进的装备和工艺解决方案。针对逻辑、存储、功率器件、光学、微显示等领域的关键工艺道次，鲁汶仪器研发了一系列12英寸及8英寸等离子体刻蚀系统、薄膜沉积系统，以及气相分解金属沾污收集系统（VPD），为客户提升产能、优化工艺提供稳定可靠的设备与完善的技术支持。